掺硼金刚石的制备及其在传感器中的应用

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掺硼金刚石的制备及其在传感器中的应用
论文目录
 
摘要第1-5页
abstract第5-10页
第一章 绪论第10-19页
  1.1 前言第10页
  1.2 金刚石的结构与性质第10-12页
    1.2.1 金刚石的结构与性质第10-12页
    1.2.2 BDD的结构及其电化学特性第12页
  1.3 BDD的制备第12-14页
    1.3.1 硼源的种类与选择第12-13页
    1.3.2 BDD的制备方法第13-14页
  1.4 BDD的应用第14-15页
  1.5 BDD及其在传感器方面的研究现状第15-17页
    1.5.1 BDD的国内外研究现状第15-16页
    1.5.2 BDD应用于传感器方面的研究现状第16-17页
  1.6 课题的研究目的和意义第17页
  1.7 研究内容与特色之处第17-19页
第二章 BDD/TA电极的制备工艺与测试方法第19-30页
  2.1 BDD/TA电极制备所需仪器设备第19页
  2.2 EA-HFCVD沉积系统简介第19-22页
    2.2.1 EA-HFCVD设备简介及系统构成第19-21页
    2.2.2 HFCVD基本原理第21-22页
  2.3 BDD薄膜的制备工艺第22-25页
    2.3.1 基片预处理的作用第22页
    2.3.2 BDD/Ta膜电极的制备工艺第22-24页
    2.3.3 灯丝碳化的作用第24页
    2.3.4 Tax C的形成及TaxC/Ta电极的制备第24-25页
  2.4 BDD膜的实验表征方法第25-26页
    2.4.1 光学显微镜(OM)第25页
    2.4.2 扫描电子显微镜(SEM)第25页
    2.4.3 拉曼光谱(Raman spectra)第25-26页
    2.4.4 X射线衍射(XRD)第26页
    2.4.5 X射线光电子能谱(XPS)第26页
    2.4.6 霍尔效应(Hall effect)第26页
  2.5 BDD/TA电极的电化学测试方法第26-30页
    2.5.1 BDD/Ta电极电化学测试所需仪器设备第26-27页
    2.5.2 循环伏安法(CV)第27-28页
    2.5.3 电化学阻抗谱(EIS)第28页
    2.5.4 差分脉冲伏安法(DPV)第28-30页
第三章 BDD薄膜的性能研究第30-45页
  3.1 BDD薄膜的研究背景第30页
  3.2 碳源浓度对BDD膜生长的影响第30-31页
  3.3 硼源浓度对BDD膜的表征及电学性能的影响第31-38页
    3.3.1 BDD膜的OM分析第31-32页
    3.3.2 BDD膜的SEM分析第32-34页
    3.3.3 BDD膜的Raman光谱分析第34页
    3.3.4 BDD/Ta膜的XRD分析第34-35页
    3.3.5 BDD膜的XPS分析第35-37页
    3.3.6 BDD膜的霍尔效应分析第37-38页
  3.4 BDD/TA电极的电化学性能分析第38-43页
    3.4.1 BDD/Ta电极的EIS谱分析第38-39页
    3.4.2 BDD/Ta电极的电势窗口分析第39-41页
    3.4.3 BDD/Ta电极的反应动力学分析第41-43页
  3.5 本章小结第43-45页
第四章 BDD/TA电极在电化学传感器方面的应用第45-57页
  4.1 研究背景第45页
  4.2 BDD/TA电极在有机污染物检测上的应用第45-49页
    4.2.1 BDD/Ta电极对于苯酚、对苯二酚、邻苯二酚和间苯二酚的电化学响应第45-46页
    4.2.2 BDD/Ta电极对于苯胺、4-氨基苯酚和2-氨基苯酚的电化学响应第46-47页
    4.2.3 BDD/Ta电极在不同浓度对苯二酚中的电化学响应第47-49页
  4.3 BDD/TA电极在多巴胺和褪黑素检测中的应用第49-56页
    4.3.1 溶液pH值的变化对反应机理的影响第49-50页
    4.3.2 BDD/Ta电极对多巴胺和褪黑素的检测机制第50-51页
    4.3.3 BDD/Ta电极对多巴胺和褪黑素的单独检测与选择性检测第51-53页
    4.3.4 BDD/Ta电极对多巴胺和褪黑素同时检测第53-54页
    4.3.5 抗干扰能力测试第54-56页
  4.4 本章小结第56-57页
第五章 本文总结第57-58页
参考文献第58-64页
发表论文和科研情况说明第64-65页
致谢第65页

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